お知らせ NEWS

半導体製造分野における分析
イオンクロマトグラフィーアプリケーション
概要集

2021.03.29

アプリケーション

イオンクロマトグラフィー アプリケーションご紹介


 

半導体製造分野における分析-イオンクロマトグラフィーアプリケーション概要集【PDF】

 

半導体製造プロセスや完成したデバイスにとって大きな懸念となるのがイオン汚染です。

イオンクロマトグラフィー(IC)は、半導体業界におけるさまざまなプロセス汚染物質の微量成分と主成分を迅速に測定できる効率的な分析技術です。

本アプリケーションノートでは、フロントエンド(半導体ウェハーの製造)およびバックエンド(半導体パッケージングとプリント基板集積)の両方を監視するICメソッドについてご紹介致します。

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